+7 999 512 42 79 Обратный звонок
Корзина (0)
Ваша корзина пуста!
Плазменное травление кварца
Плазменное травление кварца
Плазменное травление кварца
Плазменное травление кварца
Плазменное травление кварца
Плазменное травление кварца
Модель: Травление кварца

Плазменное травление кварца

В сравнение

Глубокое плазменное травление монокристаллического кварца. Возможно изменение технологических параметров в широком диапазоне, что позволяет получать структуры с заданным профилем и точно контролировать процесс травления. 

Подробное описание
На складе Купить в один клик
  • ВЧ мощность ИСП от 500 до 3500 Вт
  • Напряжение смещения, подаваемого на подложкодержатель от -15 до 500 В
  • Температура подложкодержателя от -50 до 400 ᴼС
  • Рабочее давление от 0.5 до 3 Па
  • Расход газа-травителя до 3л/ч
  • Возможность регулировки подложкодержателя относительно области генерации плазмы от 15 до 5 см
  • Скорость травления до 1.7 мкм/мин
  • Селективность по отношению к хрому до 50
  • Угол наклона стенки профиля травления до 85ᴼ

Для более подробной информации и заказа обращайтесь на электронную почту.