+7 999 512 42 79 Обратный звонок
Корзина (0)
Ваша корзина пуста!
Разработка установок 1
Разработка установок 1
Разработка установок 1
Разработка установок 1
Разработка установок 1
Разработка установок 1
Разработка установок 1
Разработка установок 1
Модель: Разработка установок 1

Разработка установок 1

В сравнение

Универсальная установка плазмохимического травления различных материалов электронной техники с источником высокоплотной (~1012 см-3) индуктивно-связанной плазмы, обеспечивающей независимую регулировку энергии и плотности потока ионов, поступающих к поверхности обрабатываемого материала, и возможность поддержания температуры подложки в диапазоне температур от -50 до 400 °C.

Подробное описание
На складе Купить в один клик
Описание
  • ВЧ мощность ИСП от 500 до 3500 Вт
  • Напряжение смещения, подаваемого на подложкодержатель от -15 до 500 В
  • Температура подложкодержателя от -50 до 400 ᴼС
  • Рабочее давление от 0.5 до 3 Па
  • Расход газа-травителя до 3л/ч
  • Возможность регулировки подложкодержателя относительно области генерации плазмы от 15 до 5 с

Для более подробной информации и заказа обращайтесь на электронную почту.